半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊

半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊 下載 mobi epub pdf 電子書 2025

全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料 著
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店鋪: 炫麗之舞圖書專營店
齣版社: 中國標準齣版社
ISBN:9787506677530
商品編碼:29866475666
包裝:平裝
齣版時間:2014-11-01

具體描述

基本信息

書名:半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊

定價:170.00元

作者:全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料

齣版社:中國標準齣版社

齣版日期:2014-11-01

ISBN:9787506677530

字數:

頁碼:

版次:1

裝幀:平裝

開本:大16開

商品重量:0.4kg

編輯推薦


內容提要


半導體材料是指介於金屬和絕緣體之間的電導率為10-3Ω·cm~108Ω·cm的一種具有極大影響力的功能材料,廣泛應用於製作晶體管、集成電路、電力電子器件、光電子器件等領域,支撐著通信、計算機、信息傢電、網絡技術、國防軍工以及近年來興起的光伏、LED等行業的發展。半導體材料及其應用已成為現代社會各個領域的核心和基礎。

目錄


YS/T 15-1991 矽外延層和擴散層厚度測定 磨角染色法
YS/T 23-1992 矽外延層厚度測定 堆垛層錯尺寸法
YS/T 24-1992 外延釘缺陷的檢驗方法
YS/T 26-1992 矽片邊緣輪廓檢驗方法
YS/T 34.1-2011 高純砷化學分析方法 電感耦閤等離子體質譜法(ICP-MS)測定高純砷中雜質含量
YS/T 34.2-2011 高純砷化學分析方法 極譜法測定硒量
YS/T 34.3-2011 高純砷化學分析方法 極譜法測定硫量
YS/T 35-2012 高純銻化學分析方法 鎂、鋅、鎳、銅、銀、鎘、鐵、硫、砷、金、錳、鉛、鉍、矽、硒含量的測定 高質量分辨率輝光放電質譜法
YS/T 37.1-2007 高純二氧化鍺化學分析方法 硫氰酸汞分光光度法測定氯量
YS/T 37.2-2007 高純二氧化鍺化學分析方法 鉬藍分光光度法測定矽量
YS/T 37.3-2007 高純二氧化鍺化學分析方法 石墨爐原子吸收光譜法測定砷量
YS/T 37.4-2007 高純二氧化鍺化學分析方法 電感耦閤等離子體質譜法測定鎂、鋁、鈷、鎳、銅、鋅、銦、鉛、鈣、鐵和砷量
YS/T 37.5-2007 高純二氧化鍺化學分析方法 石墨爐原子吸收光譜法測定鐵量
YS/T 38.1-2009 高純鎵化學分析方法 部分:矽量的測定 鉬藍分光光度法
YS/T 38.2-2009 高純鎵化學分析方法 第2部分:鎂、鈦、鉻、錳、鎳、鈷、銅、鋅、鎘、锡、鉛、鉍量的測定 電感耦閤等離子體質譜法
YS/T 226.1-2009 硒化學分析方法 部分:鉍量的測定 氫化物發生-原子熒光光譜法
YS/T 226.2-2009 硒化學分析方法 第2部分:銻量的測定 氫化物發生-原子熒光光譜法
YS/T 226.3-2009 硒化學分析方法 第3部分:鋁量的測定 鉻天青S-溴代十六烷基吡啶分光光度法
YS/T 226.4-2009 硒化學分析方法 第4部分:汞量的測定 雙硫腙-四氯化碳滴定比色法
YS/T 226.5-2009 硒化學分析方法 第5部分:矽量的測定 矽鉬藍分光光度法
YS/T 226.6-2009 硒化學分析方法 第6部分:硫量的測定 對稱二苯氨基脲分光光度法
YS/T 226.7-2009 硒化學分析方法 第?部分:鎂量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 226.8-2009 硒化學分析方法 第8部分:銅量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 226.9-2009 硒化學分析方法 第9部分:鐵量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 226.10-2009 硒化學分析方法 0部分:鎳量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 226.11-2009 硒化學分析方法 1部分:鉛量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 226.12-2009 硒化學分析方法 2部分:硒量的測定 硫代鈉容量法
YS/T 226.13-2009 硒化學分析方法 3部分:銀、鋁、砷、硼、汞、鉍、銅、鎘、鐵、鎵、銦、鎂、鎳、鉛、矽、銻、锡、碲、鈦、鋅量的測定 電感耦閤等離子體質譜法
YS/T 227.1-2010 碲化學分析方法 部分:鉍量的測定 氫化物發生-原子熒光光譜法
YS/T 227.2-2010 碲化學分析方法 第2部分:鋁量的測定 鉻天青S-溴代十四烷基吡啶膠束增溶分光光度法
YS/T 227.3-2010 碲化學分析方法 第3部分:鉛量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 227.4-2010 碲化學分析方法 第4部分:鐵量的測定 鄰菲噦啉分光光度法
YS/T 227.5 2010 碲化學分析方法 第5部分:硒量的測定 2,3-=氨基萘分光光度法
YS/T 227.6-2010 碲化學分析方法 第6部分:銅量的測定 固液分離-火焰原子吸收光譜法
YS/T 227.7-2010 碲化學分析方法 第7部分:硫量的測定 電感耦閤等離子體原子發射光譜法
YS/T 227.8-2010 碲化學分析方法 第8部分:鎂、鈉量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 227.9-2010 碲化學分析方法 第9部分:碲量的測定 重鉻酸鉀-亞鐵銨容量法
YS/T 227.10-2010 碲化學分析方法 0部分:砷量的測定 氫化物發生-原子熒光光譜法
YS/T 227.11-2010 碲化學分析方法 1部分:矽量的測定 正丁醇萃取矽鉬藍分光光度法
YS/T 227.12 2011 碲化學分析方法 2部分:鉍、鋁、鉛、鐵、硒、銅、鎂、鈉、砷量的測定 電感耦閤等離子體原子發射光譜法
YS/T 229.1-2013 高純鉛化學分析方法 部分:銀、銅、鉍、鋁、鎳、锡、鎂和鐵量的測定化學光譜法
YS/T 229.2-2013 高純鉛化學分析方法 第2部分:砷量的測定 原子熒光光譜法
YS/T 229.3-2013 高純鉛化學分析方法 第3部分:銻量的測定 原子熒光光譜法
YS/T 229.4-2013 高純鉛化學分析方法 第4部分:痕量雜質元素含量的測定 輝光放電質譜法
YS/T 276.1-2011 銦化學分析方法 部分:砷量的測定 氫化物發生-原子熒光光譜法
YS/T 276.2-2011 銦化學分析方法 第2部分:锡量的測定 苯基熒光酮-溴代十六烷基三甲胺分光光度法
YS/T 276.3-2011 銦化學分析方法 第3部分:鉈量的測定 甲基綠分光光度法
YS/T 276.4-2011 銦化學分析方法 第4部分:鋁量的測定 鉻天青S分光光度法
YS/T 276.5-2011 銦化學分析方法 第5部分:鐵量的測定 方法1:電熱原子吸收光譜法方法2:火焰原子吸收光譜法
YS/T 276.6-2011 銦化學分析方法 第6部分:銅、鎘、鋅量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 276.7-2011 銦化學分析方法 第7部分:鉛量的測定 火焰原子吸收光譜法
YS/T 276.8-2011 銦化學分析方法 第8部分:鉍量的測定 方法1:氫化物發生-原子熒光光譜法 方法2:火焰原子吸收光譜法
YS/T 276.9-2011 銦化學分析方法 第9部分:銦量的測定 Na2 EDTA滴定法
YS/T 276.10-2011 銦化學分析方法 0部分:鉍、鋁、鉛、鐵、銅、鎘、锡、鉈量的測定 電感耦閤等離子體原子發射光譜法
YS/T 276.11-2011 銦化學分析方法 1部分:砷、鋁、鉛、鐵、銅、鎘、锡、鉈、鋅、鉍量的測定電感耦閤等離子體質譜法
YS/T 519.1-2009 砷化學分析方法 部分:砷量的測定 溴酸鉀滴定法
YS/T 519.2-2009 砷化學分析方法 第2部分:銻量的測定 孔雀綠分光光度法
YS/T 519.3-2009 砷化學分析方法 第3部分:硫量的測定 鋇重量法
YS/T 519.4-2009 砷化學分析方法 第4部分:鉍、銻、硫量的測定 電感耦閤等離子體原子發
……

作者介紹


文摘


序言



《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》是一本聚焦於半導體材料檢測、分析與評價方法類國傢和行業標準的專業書籍。本書匯集瞭2014年前後發布的,與半導體材料相關的各類檢測方法、分析技術及評價規程,旨在為半導體材料的研發、生産、質量控製以及進齣口貿易提供權威、規範的依據。 一、本書的定位與價值 在日新月異的半導體技術領域,材料的性能和可靠性是決定芯片能否高效、穩定工作的基石。而準確、可靠的檢測與評價方法,則是確保材料質量、推動技術進步的關鍵。本書正是應此需求而生,它整閤瞭國傢標準(GB)和行業標準(如SJ/T、HG/T、YY/T等),聚焦於半導體材料的“方法標準”,而非材料本身的性質參數或設計規範。這意味著本書的核心價值在於提供瞭“如何去測量”、“如何去分析”、“如何去評價”的科學、統一的指導。 對於半導體材料的研究人員而言,本書是瞭解當前主流檢測技術的寶庫,可以藉鑒標準化的方法來驗證新材料的性能,或對比不同材料的優劣。對於生産企業而言,本書是質量控製的“聖經”,確保産品符閤國傢和行業的要求,是進入高端市場的通行證。對於進齣口貿易商而言,本書提供瞭國際通行的標準參考,避免因標準差異帶來的貿易壁壘。此外,對於教育和培訓機構,本書也是不可或缺的教材,能夠幫助學生和從業人員建立起紮實的半導體材料檢測理論基礎和實踐技能。 二、內容概覽:方法標準的“廣度”與“深度” 本書內容涵蓋瞭半導體材料領域廣泛的檢測方法,從宏觀到微觀,從物理性質到化學成分,從單一性能到綜閤評價,力求全麵。具體而言,內容主要可以劃分為以下幾個大的方麵: 1. 物理性能檢測方法: 半導體材料的物理性能是其電學特性的基礎。本書收錄瞭大量關於測量材料物理特性的標準,例如: 尺寸和形貌測量: 包括晶圓的直徑、厚度、平整度、翹麯度等宏觀尺寸的測量方法,以及錶麵粗糙度、形貌特徵(如晶界、缺陷)的微觀錶徵方法。這部分標準可能涉及使用輪廓儀、白光乾涉儀、掃描電子顯微鏡(SEM)等儀器。 力學性能測試: 半導體材料在加工和應用過程中需要承受一定的應力。本書可能包含關於材料的抗拉強度、彎麯強度、硬度、脆性等力學性能的測試標準,為材料的可靠性評估提供依據。 熱學性能測試: thermal properties are crucial for device performance and reliability. The book likely includes standards for measuring thermal conductivity, thermal expansion coefficient, specific heat capacity, and glass transition temperature for various semiconductor materials, particularly for packaging and substrate applications. 光學性能測試: 某些半導體材料的光學特性也對其應用至關重要,例如在光電器件領域。本書可能包含關於測量材料的透光率、反射率、摺射率、能帶隙等光學參數的標準。 2. 化學成分與純度分析方法: 半導體材料的性能對雜質的含量極為敏感,微量的雜質都可能對器件的性能造成嚴重影響。因此,精確的化學成分分析和純度測定是半導體材料評價的核心。本書將詳細介紹: 痕量雜質分析: 這是本書的重點之一。涵蓋瞭多種檢測半導體材料中痕量金屬雜質(如過渡金屬、堿金屬、稀土元素等)的方法,例如: 電感耦閤等離子體原子發射光譜法(ICP-AES)/質譜法(ICP-MS): 用於測定多種元素的痕量含量,是目前最常用的高靈敏度痕量元素分析技術。 中子活化分析(NAA): 適用於無損檢測和高純度材料分析。 X射綫熒光光譜法(XRF): 用於快速、無損地分析材料的元素組成。 原子吸收光譜法(AAS): 經典的金屬元素分析方法。 化學組成分析: 除瞭痕量雜質,對於主要成分的化學計量比、摻雜元素的精確測定也是標準化的要求。 錶麵化學分析: 對於錶麵處理、汙染物檢測等,本書可能包含X射綫光電子能譜(XPS)、俄歇電子能譜(AES)等錶麵敏感分析方法的標準。 氣體雜質分析: 某些半導體材料在製備過程中會吸收或産生氣體,影響其性能。本書可能包含對材料中吸附氣體(如氧、氮、氫)的分析標準。 3. 電學性能測試方法: 半導體材料的電學性能是其本質特徵,直接關係到器件的電學錶現。本書將提供一係列標準化的電學性能測試方法: 電阻率與導電類型測定: 這是最基礎的半導體材料錶徵。本書將包含四探針法、範德堡法等電阻率測量標準,以及霍爾效應測量法測定載流子濃度、遷移率和導電類型。 載流子壽命與復閤速率測量: 對於少數載流子壽命,特彆是在矽、鍺等材料中,對器件性能至關重要。本書可能包含瞬態光電導衰減法(TPD)、光電導瞬態響應法(TRPL)等測量標準。 禁帶寬度與能級結構錶徵: 對於化閤物半導體材料,禁帶寬度是關鍵參數。本書可能包含光緻發光(PL)、電緻發光(EL)、深能級瞬態譜(DLTS)等錶徵方法。 漏電流、擊穿電壓等半導體器件關鍵參數的材料關聯測試: 雖然本書是材料標準,但也會涉及與器件性能直接關聯的材料參數測量。 4. 結構與晶體缺陷分析方法: 材料的晶體結構和缺陷類型與數量,直接影響著半導體的電學和光學性能。 晶體結構分析: X射綫衍射(XRD)是檢測晶體結構、晶麵取嚮、晶格常數、織構等的核心技術,本書將包含相關的標準。 晶體缺陷錶徵: 包括位錯、空位、間隙原子、晶界、層錯等缺陷的觀察和定量分析。可能涉及透射電子顯微鏡(TEM)、掃描隧道顯微鏡(STM)等技術。 錶麵形貌與界麵分析: 除瞭宏觀形貌,微觀界麵的質量,如外延層與襯底的界麵,也至關重要。AFM, TEM等技術將可能在此被提及。 5. 顯微結構與形貌觀察: 提供各種顯微成像技術在半導體材料領域的應用標準,以觀察材料的微觀結構、相分布、顆粒尺寸、缺陷形貌等。 金相顯微鏡、光學顯微鏡: 用於觀察材料的宏觀和微觀組織結構。 掃描電子顯微鏡(SEM): 提供高分辨率的錶麵形貌圖像,並結閤能譜儀(EDS)進行元素定性分析。 透射電子顯微鏡(TEM): 提供原子尺度的材料內部結構和缺陷信息。 6. 標準化製樣與前處理方法: 在進行任何精確的材料分析之前,樣品的製備至關重要。本書將包含關於半導體材料樣品切割、研磨、拋光、腐蝕、清洗等標準化製樣過程的標準,以確保分析結果的準確性和可重復性。 7. 可靠性評價與壽命測試相關方法: 雖然本書側重於“方法標準”,但在材料的可靠性評價方麵,某些關鍵的測試方法也會被納入。例如,與熱應力、電應力、濕熱等環境因素相關的材料性能衰減測試方法,為材料的長期穩定性和使用壽命提供評估依據。 三、圖書特點與使用指南 權威性與規範性: 本書匯集瞭國傢和行業權威機構發布的標準,是半導體材料檢測領域最權威的參考資料之一,能夠保證檢測工作的規範性和可追溯性。 係統性與全麵性: 涵蓋瞭半導體材料檢測的多個方麵,為使用者提供瞭一個係統性的知識框架。 實用性與可操作性: 標準化的方法本身就具有很強的實踐指導意義,方便使用者直接應用於實際的檢測工作中。 時效性: 2014版的匯編,收錄瞭截至該年份最新的相關標準,反映瞭當時行業的技術水平和檢測要求。 使用指南: 明確需求: 在使用本書前,應明確您所關注的半導體材料種類、所需要進行的檢測項目以及所期望達到的技術標準。 查找對應標準: 根據您的需求,在本書目錄中查找相關的國傢標準(GB)或行業標準(SJ/T、HG/T等)。 理解標準細節: 仔細閱讀所選標準的全文,包括適用範圍、測試原理、儀器要求、樣品製備、測試步驟、數據處理、結果判定等。 結閤實際操作: 在實際操作中,嚴格按照標準要求進行,並可根據實際情況,參考標準中的注意事項和附加說明。 持續學習與更新: 技術總是在發展,標準也會不斷更新。建議關注最新的標準發布信息,保持知識的更新。 四、本書的意義與發展 《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》的齣版,不僅為當時的半導體材料行業提供瞭重要的技術支撐,也為後續標準的製定和發展奠定瞭基礎。它體現瞭國傢對半導體材料産業的高度重視,緻力於通過標準化來提升我國半導體材料的技術水平和國際競爭力。 對於從事半導體材料相關工作的專業人士而言,本書是一本不可或缺的案頭工具書。它將幫助您更準確、更規範地進行材料的檢測和評價,為推動半導體技術的進步貢獻力量。

用戶評價

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這本《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》,對我來說,是一份非常及時的參考資料。作為一名在半導體材料領域有一定從業經驗的研究人員,我一直都在尋求一套能夠規範我們實驗室測試流程、提高數據可信度的權威指南。市場上關於半導體材料的書籍不少,但大多數側重於理論介紹或者新材料的應用,真正係統地梳理各種“方法標準”的卻不多。這本書恰恰填補瞭這一空白。它聚焦於“方法”,詳細地介紹瞭2014年行業內主流的半導體材料測試和錶徵方法,包括但不限於化學成分分析、晶體結構分析、電學性能測量、以及光學特性評價等。我特彆欣賞書中對每一種方法的原理、適用範圍、以及關鍵操作步驟的清晰闡述。例如,書中關於錶麵粗糙度測量的方法,詳細對比瞭原子力顯微鏡(AFM)和輪廓儀等方法的特點,並給齣瞭各自的測量參數和數據處理建議。這對於我們選擇最適閤當前研究需求的測試手段,具有重要的指導意義。我曾遇到過這樣的情況:不同實驗室的測試結果存在差異,導緻我們難以對材料進行準確的評估。而有瞭這本書,我們可以統一采用行業標準方法,從而提高測試結果的一緻性和可靠性。

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我最近對《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》進行瞭詳細的審閱,這本書在方法標準層麵給我留下瞭深刻的印象。在我看來,標準的價值不僅僅在於規定“是什麼”,更在於闡述“怎麼做”,而這本書正是聚焦於後者。作為一名長期從事半導體器件失效分析的工程師,我深知準確、可重復的材料錶徵方法對於定位失效根源至關重要。書中關於半導體材料的各種性能檢測方法,從電學參數的測試(如載流子濃度、遷移率、導電類型等),到光學特性的測量(如光譜吸收、熒光發射等),再到結構缺陷的錶徵(如晶格缺陷、錶麵形貌等),都給齣瞭非常詳盡和可操作的指導。我尤其看重書中對於不同材料體係(如矽、化閤物半導體、寬禁帶半導體等)在方法上的差異化處理。比如,對於III-V族化閤物半導體,書中詳細介紹瞭在製備和測試過程中需要注意的特殊事項,這對於我處理這類材料時避免誤判和提高分析效率起到瞭很大的作用。我曾遇到過一個棘手的器件失效案例,經過多方排查,最終發現是材料中的某種微量雜質引起的問題。而這本書中關於痕量雜質分析的標準方法,為我指明瞭正確的方嚮,最終成功地找到瞭失效原因。這本書不僅是一份標準匯編,更是一份寶貴的失效分析經驗總結,它極大地提升瞭我解決復雜技術問題的能力。

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說實話,在翻閱《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》之前,我並沒有對其抱有多大的期望。我接觸過不少標準類書籍,很多都枯燥乏味,充斥著晦澀難懂的專業術語,而且往往缺乏實際可操作性。但這本書,卻讓我颳目相看。它以一種非常實用的視角,為我打開瞭半導體材料方法標準的大門。我最看重的是它在“方法”層麵的深入挖掘。比如,書中關於晶圓缺陷檢測的方法,不僅僅是籠統地說要檢測缺陷,而是詳細列齣瞭不同的缺陷類型,以及針對每種缺陷所推薦的檢測技術(如光學顯微鏡、掃描電鏡、原子力顯微鏡等),並且對每種技術的應用場景、優勢劣勢、以及關鍵參數設置都給齣瞭指導。這對於我這樣需要進行復雜材料分析的工程師來說,簡直是福音。我之前在處理一些材料性能異常時,常常陷入“盲人摸象”的睏境,不知道該從何處下手。現在,我有瞭這本書作為指引,可以更有針對性地選擇閤適的測試方法,快速定位問題根源。此外,書中對不同半導體材料,如矽基、III-V族、II-VI族等,都有專門的標準方法介紹,這使得我在處理不同類型材料時,都能找到閤適的參考。它不僅僅是一本標準匯編,更像是一份詳細的操作手冊,幫助我們把復雜的理論知識轉化為實際可行的操作步驟,極大地提升瞭我們的工作效率和問題解決能力。

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這本《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》真的讓我眼前一亮。作為一名在半導體行業摸爬滾打多年的工程師,我深知標準的重要性。尤其是在方法標準層麵,一套統一、嚴謹、可操作的測試和錶徵方法,是確保材料質量、保證産品良率、乃至推動整個行業技術進步的基石。我一直都在尋找這樣一本能夠係統梳理和整閤行業內權威方法標準的工具書。過去,我們往往需要分散地從各種標準組織、科研論文、甚至內部積纍中零散地獲取信息,這不僅耗時耗力,而且容易齣現理解偏差或標準衝突。而這本匯編,恰恰解決瞭這個痛點。它像一位經驗豐富的嚮導,將那些分散在各處的、關乎半導體材料“如何做”、“如何測”的關鍵方法,一一收錄,並進行瞭清晰的分類和編排。我特彆看重的是它2014版的時效性,雖然半導體技術日新月異,但方法標準的穩定性往往有其周期性,2014版在當時無疑代錶瞭行業內一個相對成熟和集成的標準體係。這本書為我提供瞭一個堅實的參考框架,讓我在進行新材料的開發、現有材料的優化、以及與其他廠商的閤作時,能夠更加自信地采用業界公認的標準流程,減少瞭溝通成本,也提升瞭工作效率。尤其是在解決一些疑難雜癥時,能夠快速地找到對應的標準方法進行排查和驗證,極大地縮短瞭問題解決周期。它不僅僅是一本工具書,更像是我們工作中的一位可靠夥伴。

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我對《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》這本書的價值,可以說是深有體會。在半導體這個快速發展的行業裏,材料是基礎,而標準的測試和錶徵方法,則是保證材料質量和性能的關鍵。這本書恰恰彌補瞭我在這個方麵的知識短闆。它係統地梳理和整閤瞭2014年以來行業內公認的,關於半導體材料的各種方法標準。我最看重的是它在“方法”上的具體性和可操作性。書中對各種測試方法,如X射綫衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)、以及各種電學性能測試等,都給齣瞭非常詳細的步驟說明、參數設置建議,甚至還附帶瞭一些典型的測試結果圖例。這對於我這樣需要在實際工作中進行材料分析和質量控製的工程師來說,簡直是如獲至寶。我經常遇到這樣的情況:在分析一些復雜的材料問題時,我需要花費大量的時間去查閱各種文獻和資料,纔能找到閤適的測試方法。而有瞭這本書,我能夠在一個地方找到所需的全部信息,極大地節省瞭我的時間,也提高瞭我的工作效率。這本書不僅僅是一份標準匯編,它更像是一本“工具箱”,裏麵裝滿瞭解決我們在半導體材料領域遇到的各種問題的“工具”。

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我最近有幸接觸到《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》這本著作,它為我打開瞭一個全新的視角。在我過去的經驗中,很多時候我們對半導體材料的理解,更多地停留在其宏觀的性能參數和應用領域。而這本書,卻將重點聚焦在“方法”層麵,詳細闡述瞭如何科學、嚴謹、有效地去測試、錶徵和評估這些材料。我尤其欣賞書中對各種測試設備的原理、操作流程以及數據分析方法的深入講解。比如,書中關於半導體材料的摻雜濃度測試,不僅僅是列齣幾種測試方法,而是詳細地對比瞭不同方法的優缺點、適用範圍,以及具體的測試步驟和數據處理公式。這讓我能夠根據實際情況,選擇最閤適的測試方法,並且能夠準確地解讀測試結果。這對於我們進行新材料的開發和優化,非常有指導意義。我曾遇到過這樣的情況:同一批次的材料,使用不同的測試方法,得齣瞭略有差異的測試數據,導緻我們無法準確地評估材料的性能。而有瞭這本書,我能夠更清晰地理解這些差異産生的原因,並且能夠通過采用更權威的標準方法,來確保測試結果的準確性。這本書不僅僅是一份技術參考,更是一種嚴謹的科學方法論的體現,它幫助我們從“知道”走嚮“做到”,從“猜測”走嚮“實證”,對於提升我們在半導體材料領域的專業能力,具有裏程碑式的意義。

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我最近拿到手的這本《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》對我而言,簡直是及時雨。最近公司正準備引入一批新的半導體材料,但市場上相關的測試和錶徵方法魚龍混雜,很多供應商提供的測試報告,我們根本無法與之進行有效的對比和評估。我急需一套權威的、能夠代錶行業主流的方法標準來指導我們的評估工作。這本書的內容,特彆是關於各種半導體材料(比如矽、砷化鎵、氮化鎵等)的物理、化學、電學性能測試方法,讓我眼前一亮。它係統地羅列瞭從宏觀尺寸到微觀結構的各種檢測手段,並且給齣瞭具體的實驗步驟、設備要求、以及數據處理的指導原則。這極大地彌補瞭我在這方麵的知識盲區,也為我們建立內部的材料質量控製體係提供瞭寶貴的參考。我尤其欣賞的是它對“方法”的精細化拆解,不隻是列齣測試項目,而是深入到測試的每一個細節,這對於確保測試結果的準確性和可重復性至關重要。以前,我們常常因為對測試方法理解不深,導緻測試結果齣現不一緻,或者無法準確地解讀供應商提供的報告。有瞭這本書,我感覺自己就像擁有瞭一本“武功秘籍”,能夠更清晰地理解各種測試方法背後的原理和操作要領,從而能夠更有效地進行供應商篩選、材料入庫檢測,以及解決生産過程中齣現的材料相關問題。這本書的價值,遠超一本書籍本身,它代錶瞭一種嚴謹、科學的工作態度和方法論,對於任何從事半導體材料研發、生産、品控的人員來說,都是一份不可多得的財富。

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我最近對《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》這本書進行瞭深入的閱讀,它為我提供瞭一個全新的視角來理解半導體材料的標準。一直以來,我對於“標準”的理解更多地停留在最終的性能指標上,而忽略瞭支撐這些指標的“方法”。這本書的價值在於,它將重點放在瞭“方法”上,詳細地列齣瞭2014年行業內普遍采用的,用於評估半導體材料各種屬性的標準方法。我非常看重書中對各種測試方法的操作細節和注意事項的描述。比如,書中關於半導體材料中的雜質含量分析,詳細介紹瞭不同光譜分析技術的原理、樣品製備要求、以及數據采集和處理的步驟。這對於我這樣需要在實際工作中進行精確的材料成分分析的人來說,具有非常高的參考價值。我曾遇到過這樣的睏境:在評估供應商提供的材料時,由於對測試方法理解不深,常常難以辨彆報告的準確性。而有瞭這本書,我可以對照標準方法,更有效地理解和評估這些報告。這本書不僅僅是一份技術性的匯編,它更像是一部“操作指南”,幫助我們能夠更嚴謹、更科學地進行半導體材料的評估和研究,從而推動整個行業的進步。

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這本書,即《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》,對於我這樣一名剛剛踏入半導體行業的新人來說,簡直是救星。我之前在學校學到的很多理論知識,到瞭實際工作中,發現和實際操作之間存在巨大的鴻溝。特彆是在材料的性能測試和錶徵方麵,我常常感到無從下手。當我拿到這本書時,我驚奇地發現,它就像是為我量身定做的。書中詳細列齣瞭各種半導體材料的標準測試方法,從基本的物理參數測量,到復雜的電學特性分析,再到微觀形貌的錶徵,幾乎涵蓋瞭所有我可能遇到的情況。而且,它不像一些學術論文那樣晦澀難懂,而是以一種清晰、條理分明的方式呈現,甚至給齣瞭很多操作細節和注意事項。我印象最深的是關於矽片錶麵缺陷檢測的部分,書中詳細介紹瞭如何使用光學顯微鏡和掃描電子顯微鏡來識彆不同類型的錶麵缺陷,並提供瞭相應的標準圖像作為參考。這讓我能夠更快地熟悉和掌握這些關鍵的測試技術。這本書為我提供瞭一個堅實的理論基礎和實踐指導,讓我能夠更有信心去麵對工作中遇到的各種技術挑戰。它不僅讓我學會瞭“怎麼做”,更讓我理解瞭“為什麼這麼做”,這對於我快速成長至關重要。

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我近期深入研讀瞭《半導體材料標準匯編(2014版) 方法標準 行標分冊》,這本書的實用性超齣瞭我的預期。作為一名資深的材料工程師,我深知標準化方法在半導體材料研發和生産中的核心作用。尤其是在涉及多方閤作、質量認證以及産品可靠性評估時,一套統一、權威的方法標準是不可或缺的。這本書精準地抓住瞭這個關鍵點,它係統地收錄瞭2014年行業內認可的,關於半導體材料的各種方法標準。我特彆欣賞它在具體操作層麵的細緻描述。例如,書中關於薄膜厚度測量的各種方法,如橢圓偏振光譜法、原子力顯微鏡法、以及X射綫衍射法等,都給齣瞭詳細的原理介紹、設備要求、樣品製備指南、以及數據解讀方法。這對於我們在進行新工藝開發時,選擇最閤適的測量手段,並確保測量結果的準確性和一緻性,提供瞭極大的幫助。我經常遇到這樣的情況:不同的實驗室、不同的設備,即使是同一個測試項目,也可能得齣略有差異的結果。而這本書提供的正是解決這種問題的鑰匙,它能夠幫助我們統一測量標準,減少不必要的爭議,從而提高整個團隊的工作效率。這本書不僅僅是一本資料,它更像是一部“方法論”的百科全書,為我們提供瞭解決實際問題的有力武器,是任何一傢緻力於半導體材料研究和生産的企業都應該擁有的寶貴資源。

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