| 圖書基本信息,請以下列介紹為準 | |||
| 書名 | 集成電路製造技術 | ||
| 作者 | 杜中一 | ||
| 定價 | 35.00元 | ||
| ISBN號 | 9787122262844 | ||
| 齣版社 | 化學工業齣版社 | ||
| 齣版日期 | 2016-04-01 | ||
| 版次 | 1 | ||
| 其他參考信息(以實物為準) | |||
| 裝幀:平裝 | 開本:16開 | 重量:0.4 | |
| 版次:1 | 字數: | 頁碼: | |
| 插圖 | |
| 目錄 | |
| 內容提要 | |
| 《集成電路製造技術》全麵係統地介紹瞭集成電路製造技術,內容包括集成電路製造概述、多晶半導體的製備、單晶半導體的製備、晶圓製備、薄膜製備、金屬有機物化學氣相沉積、光刻、刻蝕及摻雜。《集成電路製造技術》簡要介紹瞭集成電路製造的基本理論基礎,係統介紹瞭多晶半導體、單晶半導體與晶圓的製備,詳細介紹瞭薄膜製備、光刻與刻蝕及摻雜等工藝。由於目前光電産業的不斷發展,對於化閤物半導體的使用越來越多,《集成電路製造技術》以半導體矽材料集成電路製造為主,兼顧化閤物半導體材料集成電路製造,比如在介紹薄膜製備工藝中,《集成電路製造技術》用單獨的一章介紹瞭如何通過金屬有機物化學氣相沉積來製備化閤物半導體材料薄膜。《集成電路製造技術》可供集成電路製造行業從業人員學習參考,也可作為微電子、光電子等相關專業教材。 |
| 編輯推薦 | |
| 《集成電路製造技術》全麵係統地介紹瞭集成電路製造技術,內容包括集成電路製造概述、多晶半導體的製備、單晶半導體的製備、晶圓製備、薄膜製備、金屬有機物化學氣相沉積、光刻、刻蝕及摻雜。《集成電路製造技術》簡要介紹瞭集成電路製造的基本理論基礎,係統介紹瞭多晶半導體、單晶半導體與晶圓的製備,詳細介紹瞭薄膜製備、光刻與刻蝕及摻雜等工藝。由於目前光電産業的不斷發展,對於化閤物半導體的使用越來越多,《集成電路製造技術》以半導體矽材料集成電路製造為主,兼顧化閤物半導體材料集成電路製造,比如在介紹薄膜製備工藝中,《集成電路製造技術》用單獨的一章介紹瞭如何通過金屬有機物化學氣相沉積來製備化閤物半導體材料薄膜。《集成電路製造技術》可供集成電路製造行業從業人員學習參考,也可作為微電子、光電子等相關專業教材。 |
| 作者介紹 | |
| 杜中一,大連職業技術學院,副院長,副教授研究方嚮:電子科學與技術一..教育背景 1997.9—2001.7 遼寜石油化工大學計算機科學專業,獲理工學士學位。 2003.9—2006.7 大連理工大學機電專業,獲工學碩士學位。二.著譯作品(1)主編《SMT錶麵組裝技術》電子工業齣版社 2009年1月(2)主編《電子製造與封裝》電子工業齣版社 2010年3月(3)主編《半導體技術基礎》化學工業齣版社 2011年1月(4)主編《電類專業英語》電子工業齣版社 2012年11月三.業務成果 主持完成省級及以上科研課題5項。 在全性刊物發錶學術論文26篇,其中ISTP收錄1篇,北大核心2篇。4項。橫嚮課題3項。 |
| 序言 | |
閱讀這本書的過程,就像是進行瞭一次精密的“微觀世界探險”。杜中一教授的敘述風格非常嚴謹,邏輯鏈條清晰得令人贊嘆。我感覺這本書的價值在於它對“良率”(Yield)這個核心概念的反復強調和深入剖析。在實際的晶圓製造中,良率是商業成敗的關鍵,而影響良率的因素錯綜復雜,涉及到前道工序(FEOL)到後道工序(BEOL)的每一步。書中詳細分析瞭金屬互連技術的發展,從傳統的鋁布綫到現在的銅互連,以及應力梯度對電遷移的影響,這部分內容對我理解芯片可靠性至關重要。更讓我佩服的是,作者在討論新工藝節點時,總是能敏銳地指齣當前技術麵臨的瓶頸,比如FinFET到GAA(Gate-All-Around)的過渡中,靜電控製的挑戰和材料選擇的權衡。這本書的知識點密度非常高,我不得不時常停下來,查閱一些相關的材料科學背景知識,但這種“帶著問題去學習”的過程,反而加深瞭對內容本身的理解。
這本書的結構編排展現瞭作者深厚的教學經驗。它不是按照時間順序堆砌技術演進,而是緊密圍繞“如何將矽片轉化為功能性電路”這一主綫展開。比如,在討論摻雜技術時,作者沒有僅僅介紹離子注入,而是細緻地對比瞭擴散和注入在深度控製、激活效率上的差異,並結閤後退火工藝來優化載流子濃度分布。這種從原理齣發,再落腳到工藝控製的敘述方式,使得知識點之間形成瞭強大的內在聯係。我特彆喜歡書中對清洗和鈍化工藝的描述,這些看似“簡單”的步驟,實際上是決定最終器件性能和壽命的無名英雄。書中對超淨室環境控製的側重,也從側麵反映瞭集成電路製造對環境潔淨度的極端要求。總的來說,這本書的知識體係非常完整,層次分明,適閤係統性學習半導體製造的專業人士。
坦白說,這本書的專業術語和公式推導量是相當大的,初次接觸可能會覺得有些吃力。但如果能堅持下來,你會發現它提供瞭一個無與倫比的全局觀。與其他側重於單個設備或軟件仿真的書籍不同,杜中一的《集成電路製造技術》更注重“係統工程”的角度。比如,在討論先進封裝技術(如Chiplet、2.5D/3D集成)時,作者將製造的視角從傳統的平麵擴展到瞭空間維度,探討瞭TSV(矽通孔)的製造難度、熱管理問題以及如何通過先進的引綫鍵閤技術實現高密度互連。這讓我意識到,現代半導體製造早已超越瞭單純的“製程微縮”,而是轉嚮瞭“異構集成”的新範式。書中對這些前沿趨勢的把握精準且富有洞察力,使得這本書不僅是一本迴顧曆史和現狀的教材,更是一份指引未來技術發展方嚮的路綫圖。
這本《集成電路製造技術》的作者杜中一,從我個人的閱讀體驗來說,這本書的深度和廣度都讓人印象深刻。它不僅僅是簡單地羅列一些工藝流程,而是深入探討瞭半導體製造背後的物理原理和化學反應。比如,在光刻環節,作者對EUV(極紫外光刻)技術的講解就非常到位,不僅描述瞭設備的工作原理,更重要的是分析瞭不同波長光刻膠的特性以及它們在納米尺度下麵臨的挑戰,比如散射、套刻精度等。我尤其欣賞的是,書中對薄膜沉積和刻蝕技術(特彆是反應離子刻蝕RIE和深反應離子刻蝕DRIE)的係統性闡述。這些技術是決定芯片性能的關鍵所在,書中通過大量的圖錶和公式推導,將原本抽象的微觀過程變得具體可感。對於我這種希望深入理解半導體器件物理基礎的讀者來說,這本書無疑提供瞭一個堅實的理論框架。它不是那種浮於錶麵的科普讀物,而是需要讀者具備一定基礎知識纔能完全吸收的專業教材,但一旦掌握,對整個IC設計和製造鏈條的理解都會提升到一個新的高度。
這本書的價值還在於它對細節的苛求和對誤差的敏感性。在讀取關於CMP(化學機械拋光)的章節時,我被深深震撼瞭。CMP遠非簡單的“打磨”,它涉及到復雜的化學反應、磨料的粒徑分布、拋光液的配方,以及對錶麵應力的精確控製,以確保在去除多餘材料的同時,保持極高的平坦度(幾埃的誤差都是不能接受的)。作者用生動的語言描述瞭如何通過控製這些變量來實現納米級的精度,這讓我對人類工程能力的邊界有瞭更深刻的認識。這本書的閱讀體驗是挑戰與迴報並存的——它要求讀者投入大量精力去理解那些隱藏在材料錶象之下的物理化學本質,但一旦理解,任何關於芯片製造的新聞或進展在你眼中都將不再神秘,而是可以被追溯到書中的某個基本原理。