图书基本信息 | |
图书名称 | 纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计 |
作者 | (美)Sandip Kundu等著 |
定价 | 58.00元 |
出版社 | 科学出版社 |
ISBN | 9787030400345 |
出版日期 | 2014-04-01 |
字数 | |
页码 | |
版次 | 1 |
装帧 | 平装 |
开本 | 16开 |
商品重量 | 0.4Kg |
内容简介 | |
《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》的内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势;半导体制造技术;光刻技术;工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模;面向可制造性的物理设计技术;测量、制造缺陷和缺陷提取;缺陷影响的建模和合格率提高技术;物 |
作者简介 | |
目录 | |
编辑推荐 | |
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文摘 | |
序言 | |
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