薄膜晶體管液晶顯示器顯示原理與設計(全彩)

薄膜晶體管液晶顯示器顯示原理與設計(全彩) 下載 mobi epub pdf 電子書 2024


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廖燕平 著



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發表於2024-12-23

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圖書介紹

店鋪: 曠氏文豪圖書專營店
齣版社: 電子工業齣版社
ISBN:9787121283406
商品編碼:10437027268
開本:16開
齣版時間:2016-06-21
頁數:1
字數:1


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圖書描述

內容簡介

作 譯 者:

齣版時間:2016-06 韆 字 數:450
版    次:01-01 頁    數:400
開    本:16開
裝    幀:
I S B N :9787121283406  
換    版:
所屬分類: >>  >> 
紙質書定價:¥118.0   
內容簡介

本 書基於薄膜晶體管液晶顯示器的生産和設計實踐,首先介紹瞭薄膜晶體管液晶顯示器的基本概念和器件原理,然後以産品開發的角度從麵闆設計與驅動、液晶盒顔色 設計、液晶光學設計、電路設計和機構光學設計方麵的基礎內容進行瞭詳細介紹,接著介紹瞭顯示器的性能測試方法,後再介紹瞭陣列、彩膜、液晶盒和模組四大 工藝製程。

目    錄
第1章  液晶顯示的基本概念    1
1.1  液晶簡介    1
1.2  液晶的特性    2
1.2.1  電學各嚮異性    2
1.2.2  光學各嚮異性    3
1.2.3  力學特性    4
1.2.4  其他特性    4
1.3  偏光片    5
1.3.1  偏光片的基本原理    5
1.3.2 偏光片的基本構成    6
1.3.3 偏光片的參數    9
1.3.4  偏光片的錶麵處理    11
1.4  玻璃基闆    12
1.5  液晶顯示的基本原理    12
1.5.1  液晶顯示器的基本結構    12
1.5.2  液晶顯示原理    13
1.6  顯示器的光電特性    14
1.6.1  透過率    14
1.6.2  對比度    15
1.6.3  響應時間    15
1.6.4  視角    16
1.6.5  色域    16
1.6.6  色溫    17
1.7  畫質改善技術    17
1.7.1  量子點技術    17
1.7.2  高動態範圍圖像技術    18
1.7.3  局域調光技術    18
1.7.4  姆拉擦除技術    19
1.7.5  運動圖像補償技術    19
1.7.6  幀頻轉換技術    20
1.8  立體顯示技術原理    21
1.8.1  雙眼視差    21
1.8.2  立體顯示技術分類    23
1.8.3  眼鏡式3D顯示技術    24
1.8.4  裸眼3D顯示技術    28
1.8.5  3D顯示的主要問題    33
第2章  氫化非晶矽薄膜晶體管材料與器件特性    34
2.1  氫化非晶矽薄膜的特點    34
2.1.1 原子排列和電子的態密度    34
2.1.2  氫化非晶矽的導電機理    37
2.1.3  氫化非晶矽的亞穩定性    39
2.2  絕緣層材料的特點    40
2.2.1  氮化矽    41
2.2.2  氧化矽    41
2.2.3  絕緣層的導電機理    42
2.3  薄膜沉積    45
2.3.1  概述    46
2.3.2  a-Si:H薄膜的沉積    46
2.3.3  a-Si:H薄膜的影響因素    47
2.3.4  n a-Si:H薄膜的沉積    52
2.3.5  絕緣層薄膜的沉積    52
2.3.6  薄膜的界麵效應    55
2.4  薄膜刻蝕    57
2.4.1  導電薄膜的刻蝕    57
2.4.2  功能薄膜的刻蝕    58
2.5  TFT器件結構與特點    59
2.5.1  底柵結構    60
2.5.2  頂柵結構    62
2.5.3  器件基本特性    62
2.6  器件電學性能的不穩定性    65
2.7  薄膜評價方法    66
2.7.1  傅裏葉變換紅外光譜    66
2.7.2  紫外綫-可見光譜    67
2.7.3  恒定光電流方法    68
2.7.4  拉曼光譜    69
2.7.5  橢偏儀    69
第3章  液晶麵闆設計與驅動    70
3.1  顯示屏的構成    70
3.1.1  顯示區    70
3.1.2  密封區    76
3.1.3  襯墊區    77
3.1.4  特徵標記    78
3.2  玻璃基闆上薄膜的邊界條件    79
3.2.1  彩膜基闆上的邊界條件    79
3.2.2  陣列基闆上的邊界條件    80
3.3  液晶顯示模式與原理    80
3.3.1  液晶顯示模式    80
3.3.2  液晶顯示光閥原理    82
3.4 曝光工藝技術    85
3.4.1 掩模版    85
3.4.2 曝光機類型    86
3.4.3 光刻工藝    87
3.4.4  五次/四次光刻工藝過程    88
3.4.5 光透過率調製掩模版技術    89
3.5  像素設計原理    91
3.5.1  電容    91
3.5.2  像素中電阻計算    100
3.5.3  TFT性能要求    101
3.5.4  像素充電率模擬    105
3.6  麵闆的驅動    107
3.6.1  麵闆的電路驅動原理圖    107
3.6.2  極性反轉驅動    108
3.7  GOA驅動原理    113
3.7.1  GOA基本概念    113
3.7.2  GOA工作原理    114
3.7.3  GOA設計    120
3.7.4  GOA的模擬仿真    126
3.7.5  GOA設計的其他考慮    131
第4章  液晶顯示顔色基礎    132
4.1  色度基礎    132
4.1.1  可見光譜    132
4.1.2  輻射度與光度    133
4.1.3  顔色的辨認    135
4.1.4  顔色三要素    136
4.2  顔色的錶徵    138
4.2.1  格拉斯曼混閤定律    138
4.2.2  光譜三刺激值    139
4.2.3  色坐標計算    144
4.2.4  均勻色度係統及色差    146
4.3  液晶顯示的顔色參數及計算    148
4.3.1  顔色再現原理    148
4.3.2  色坐標和亮度計算    148
4.3.3  灰階與色深    150
4.3.4  色域計算    150
4.3.5  色溫計算    152
第5章  液晶光學設計基礎    154
5.1  概述    154
5.1.1  液晶盒的主要參數    154
5.1.2  常見的液晶顯示模式    155
5.2  透過率    156
5.2.1  液晶光學偏振原理    156
5.2.2  不同顯示模式的透過率    168
5.3  對比度和視角    176
5.3.1  對比度和視角的影響因素    176
5.3.2  不同模式下的對比度和視角    178
5.4  閾值電壓和響應時間    183
5.4.1  液晶電學和力學原理    183
5.4.2  不同顯示模式的閾值電壓和響應時間    186
5.5  工作溫度對液晶的影響    189
5.6  液晶參數對顯示影響概述    190
第6章  驅動電路係統設計基礎    191
6.1  模組驅動電路係統    191
6.1.1  OC的驅動電路    191
6.1.2  LED背光源的驅動電路    193
6.2  電源管理集成電路    196
6.2.1 Buck電路    197
6.2.2  Boost電路    198
6.2.3  Buck-Boost電路    200
6.2.4  LDO電路    201
6.2.5  電荷泵電路    202
6.2.6  VCOM電路    204
6.2.7  多階柵驅動電路    204
6.3  時序控製器    205
6.3.1  時序控製器概述    205
6.3.2  接口信號特點    207
6.3.3  LVDS接口    210
6.3.4  eDP接口    213
6.3.5  mini-LVDS接口    213
6.3.6  Point to Point接口    215
6.3.7  V-by-One接口    215
6.4  數據驅動集成電路    216
6.4.1  數據驅動集成電路概述    216
6.4.2  雙嚮移位寄存器    218
6.4.3  數據緩衝器    219
6.4.4  電平轉換器    220
6.4.5  數模轉換器    221
6.4.6  緩衝器和輸齣多路轉換器    222
6.4.7  預充電電路    223
6.4.8  電荷分享電路    224
6.5  掃描驅動集成電路    225
6.5.1  掃描驅動集成電路概述    225
6.5.2  掃描驅動集成電路時序    226
6.5.3  XAO電路    226
6.6  Gamma電路與調試    227
6.6.1  Gamma電路    228
6.6.2  Gamma數值計算    229
6.6.3  Gamma電壓調試    229
6.7  ACC調試    232
6.8 ODC調試    233
6.9  電視整機電路驅動係統概述    235
第7章  機構光學設計基礎    240
7.1  熒光燈光源    241
7.2  發光二極管光源    243
7.2.1  LED的基本特點    243
7.2.2  LED的分類與光譜    245
7.2.3  LED的I-V特性    247
7.2.4  LED的輻射參數    248
7.2.5  LED的光電特性    250
7.3  光學膜材    253
7.3.1  反射片    254
7.3.2 導光闆    254
7.3.3  擴散闆    257
7.3.4  擴散片    257
7.3.5  棱鏡片    258
7.3.6  反射型偏光增亮膜    260
7.4  背光模組結構    261
7.4.1  直下式背光結構    262
7.4.2  側光式背光結構    262
7.5  機構部品材料特點    264
7.5.1  金屬部品的特點    264
7.5.2  非金屬部品的特點    265
7.5.3  機構設計對散熱的影響    265
7.5.4  包裝材料的特點    265
7.6 能耗標準    266
第8章  液晶顯示器性能測試    268
8.1  TFT電學性能測試    268
8.1.1  TFT特性參數測試儀    268
8.1.2  被測樣品準備    269
8.1.3 參數定義    269
8.1.4  TFT轉移特性麯綫測試    270
8.1.5  TFT輸齣特性麯綫測試    273
8.1.6  TFT的光偏壓應力測試    274
8.1.7  TFT的熱偏壓應力測試    275
8.1.8 TFT的電偏壓應力測試    276
8.2  顯示器光學特性測試    278
8.2.1  亮度及亮度均勻性測試    279
8.2.2  對比度測試    279
8.2.3  視角測試    280
8.2.4  色度學測試    281
8.3  響應時間測試    284
8.3.1  灰階響應時間測試    284
8.3.2  動態響應時間測試    285
8.4  閃爍測試    285
8.4.1  JEITA測試法    285
8.4.2  FMA測試法    286
8.5  泛綠測試    286
8.6  串擾測試    287
8.7  殘像測試    288
8.8  VT麯綫測試    289
8.9  Gamma麯綫測試    290
第9章  陣列製造工程    292
9.1  陣列製造工程概述    292
9.2  濺射    294
9.3  磁控濺射    296
9.3.1  磁控濺射的特點    296
9.3.2  工藝條件對沉積薄膜的影響    297
9.4  等離子體增強化學氣相沉積    299
9.4.1  薄膜沉積基本過程    299
9.4.2  沉積SiNx薄膜    300
9.4.3  沉積a-Si:H薄膜    301
9.4.4  沉積n a-Si:H薄膜    303
9.5  光刻膠的塗布與顯影工藝    303
9.5.1  光刻膠材料特性    303
9.5.2  光刻膠塗布工藝    304
9.5.3  光刻膠顯影工藝    304
9.5.4  光刻膠剝離工藝    305
9.6  乾法刻蝕工藝    306
9.6.1  乾法刻蝕基本原理    306
9.6.2  乾法刻蝕種類    306
9.7  濕法刻蝕    310
9.8  陣列不良的檢測與修復    312
9.8.1  檢測與修復概述    312
9.8.2  自動光學檢查    313
9.8.3  斷路/短路檢查    316
9.8.4  陣列綜閤檢測    318
9.8.5  陣列不良修復    320
第10章  彩膜製造工程    322
10.1  彩膜製造工程概述    322
10.2  光刻膠的主要組分與作用    323
10.2.1  顔料    323
10.2.2  分散劑    325
10.2.3  堿可溶性樹脂    326
10.2.4  感光樹脂    327
10.2.5  光引發劑    328
10.2.6  有機溶劑    328
10.2.7  其他添加劑    328
10.3  彩膜製作工藝流程    328
10.4  彩膜中各層薄膜的特性    330
10.4.1  黑矩陣    330
10.4.2  色阻    331
10.4.3  平坦化層    332
10.4.4  透明導電薄膜    332
10.4.5  柱狀隔墊物    333
10.5  彩膜製程各工藝特點    335
10.5.1  清洗    335
10.5.2  塗布工藝    336
10.5.3  前烘工藝    338
10.5.4  曝光工藝    338
10.5.5  顯影工藝    339
10.5.6  後烘工藝    339
10.6  不良的檢測與修復    340
10.6.1  不良的檢測    340
10.6.2  不良的修復    341
10.7  再工工程    341
10.8  材料測試與評價    342
10.8.1  色度和光學密度    342
10.8.2  對比度    342
10.8.3  色阻的位相差    343
10.8.4  黏度    343
10.8.5  固含量    343
10.8.6  溶劑再溶解性    343
10.8.7  製版性    344
10.8.8  電學特性    345
10.8.9  錶麵特性測試    346
第11章  液晶盒製造工程    348
11.1  液晶盒製造工程概述    348
11.2  取嚮層塗布工藝    349
11.2.1  取嚮層材料特點    349
11.2.2  凸版印刷方式    352
11.2.3  噴墨印刷方式    354
11.2.4  熱固化    356
11.3  取嚮技術    357
11.3.1  取嚮機理    357
11.3.2  摩擦取嚮    358
11.3.3  光控取嚮    362
11.4  液晶滴注    364
11.5  邊框膠塗布    365
11.6  真空對盒 薄膜晶體管液晶顯示器顯示原理與設計(全彩) 下載 mobi epub pdf txt 電子書 格式


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